有关卧式扩散炉内容介绍

卧式扩散炉由于离子注入设备购入和维护成本高昂，并且适用于更小特征图形尺寸与更近电路器件间距的场合，能接受中低成本和热扩散限制的电子电子、集成电路、晶体硅太阳电池制造行业等主要使用卧式扩散炉进行扩散掺杂。卧式扩散炉是这些细分行业掺杂工艺的核心设备，从而改变和控制晶圆内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。卧式扩散炉主要由加热炉体、石英管、气路系统，取送料装置等组成。

为保证反应管内压力平衡，卧式扩散炉的反应腔室配有压差传感器检测炉内外压差，并有专门的控制装置和气路流量计与之配套实时控制，通过充气调压的方式保证炉内外压差为定值，且可根据工艺需求改变压差设定值，从而提高工艺均匀性及工艺扩展性，正压5～70Pa可调，精度±3Pa。得益于炉管压力平衡系统的引入，实现了压力负反馈调节，这有助于稳定反应室内的气流。在获得方块电阻使用场合，这种炉管压力平衡系统可使卧式扩散炉可确保在40~90 Ohm/sq区间的5点方阻均匀性达到5% 、4%、4%。

卧式扩散炉随着半导体技术的不断发展，半导体行业逐渐细分，在集成电路、功率半导体、光信息器件、化合物半导体等细分行业，技术成熟可靠的NAURA卧式扩散炉还可以用于干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、扩散、退火/推进和合金等多种工艺，真可谓一机在手，功能全有。

高性能卧式扩散炉的加热炉体均采用五段控温，每段配备独立的可控硅模块实现精准电力控制，控温系统均配备炉内高精度热电偶和炉体管壁热电偶，均采用控制精度高于0.1%的进口温控模块，高端扩散炉制造商甚至使用控制精度为0.05%的温度控制模块，并由工控机进行温度采集与设定。